衡陞科技利用EBIRCH手法透過Kleindiek PS8準確定位出Gate Oxide Leak
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- 2020-05-07
衡陞科技為世界領先的奈米探針製造商，並同為Kleindiek nanoprober 在台灣及中國區第一優先代理商。
近期，衡陞科技成功使用EBIRCH手法在衡陞科技自有實驗室利用PS8系統精準定位出Gate Oxide的問題。
目前衡陞科技自產奈米探針，能夠定位出最低漏電值為E-10的Defect。
以下為E-beam相關應用-EBIRCH的範例介紹
首先利用InGaAs手法定位出大範圍的漏電
接著利用Delayer手法將樣品準備至該層的Drain或是Source是連在一起的。
後續再藉由EBIRCH手法來快速並精準定位出Gate到Drain或是Gate到Source的那個接點有問題，最後收斂至電晶體大小的leak點
在EBIRCH定位後，使用TEM執行PFA，發現確實有gate oxide的問題
以下為E-beam相關利用之簡短說明
|
Technique |
Method |
Object |
Defect Sorts |
Full Name of Technique |
|
EBAC |
absorb |
Metal Line |
open, short |
Electron Beam Absorbed Current |
|
EBIC |
e-p pair |
p-n junction |
p-n junction |
Electron Beam Induced Current |
|
EBIRCH |
Heat |
Different material |
short |
Electron Beam Induced Resistance Change |
|
RCI |
Absorb |
Metal line |
Local High R |
Resistive Contrast Imaging |
如有興趣或有任何問題，請洽電衡陞科技：03-666-1059
